驱动中国2023年11月3日消息，近日，三星电子本周向投资者透露，近期将过渡和推进光刻技术，计划2024年下半年向市场推出采用第二代3nm工艺技术(SF3)以及量产版4nm工艺(SF4X)的产品。

三星声称，SF3将提供更大的设计多功能性，可以在相同的单元类型中，为不同的全栅极(GAA)晶体管提供不同的纳米片通道宽度。不过，尽管三星没有直接比较SF3和SF3E，但三星表示SF3比SF4(4LPP、4nm级、低功耗)有重大改进：包括在相同功率和复杂性下性能提高22%，或者在相同频率和晶体管数量下功耗降低34%，以及逻辑面积减少21%。