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台积电:7nm EUV芯片首次流片成功 5nm明年试产
时间：2018-10-10 00:00:00来自：证券时报·e公司字号：T  T

据快科技报道,台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次使用7nmEUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。

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