中证网讯2018中国集成电路产业发展研讨会暨第二十一届中国集成电路制造年会9月13日-14日正在无锡召开。全球高端光刻机垄断霸主ASML亚太区技术营销协理郑国伟介绍,2018年下半年ASML已开始出货最先进的浸润式光刻机NXT:2000i,符合集成电路制造5nm制程工艺需求。ASML中国区总裁沈波在接受采访时表示,这台ASML最先进的设备也将很快在中国市场看到。

此前曾有消息称ASML受到限制没有把最好的机器设备销售给中国,对此,沈波表示,上述说法并非事实。ASML的EUV、NXT:1980等高端设备均已进入中国。目前ASML最新最先进的支撑7nm/5nm制程工艺的NXT:2000i也会很快在中国市场看到。

根据中银国际机械团队统计,2018年5月19日,长江存储订购的ASML193nm浸没式光刻机运抵武汉;5月21日,华力二期(华虹六厂)订购的193nm双极沉浸式光刻机NXT:1980Di已经进场。中芯国际也已向ASML购买一台EUV(极紫外线)光刻设备,预计2019年交付。这些设备价格十分高昂,单价在7000万美元至1.2亿美元。

据统计,2017年全球半导体光刻设备厂中,ASML以80%以上的市占率稳居龙头,其次是日本厂商尼康(Nikon)和佳能(Canon),而在高端EUV光刻机台方面,ASML几乎100%垄断供应。

“如果我们交不出EUV的话,摩尔定律就会从此停止”,ASML董事长Peter曾接受媒体采访时说。摩尔定律演进对设备厂商提出很大的技术研发挑战,巨额的研发投入已经不是一家公司能够负担。目前,英特尔、台积电、三星等ASML所服务的集成电路制造客户,已经成为ASML的股东,协助ASML研发。摩根大通最新报告表示,ASML已经确认1.5nm制程的发展性,可支撑摩尔定律延续至2030年。沈波指出,2018年ASML投入16亿欧元研发,占营收约15%。

ASML总部位于荷兰,脱胎于飞利浦光刻设备研究组,1995年在纳斯达克上市。