《经济通通讯社10日专讯》光刻机巨头艾司摩尔(ASML)总部所在国荷兰目前已禁止极紫外光(EUV)光刻机对华出口，并考虑进一步将限制范围扩大至更低一档的浸没式DUV光刻机。至于另一个半导体设备主要出口国日本，其经济产业大臣西村康俊最新表示，日本尚未就限制晶片制造设备出口作出决定，将根据荷兰方面的发展考虑适当的措施。

此前有报道指，美国、日本及荷兰三国高层今年1月下旬在华盛顿就半导体议题达成协议，日本将跟随美国和荷兰，限制向中国出口高端晶片生产设备。