至纯科技业绩增长现金流多年倒挂 半导体湿法设备步入快车道
时间:2022-02-14 00:00:00来自:投资者网字号:T  T

半导体清洗设备是贯穿半导体产业链的重要工艺环节,在全球半导体设备的市场销售额占比约5%-7%,但目前全球半导体清洗设备市场基本被国际大厂垄断,国内厂商的份额极低。不过随着包括至纯科技(603690.SH)在内的国产企业在技术上逐渐对标国际大厂,清洗设备国产替代的发展路径逐渐明晰。

至纯科技是国内半导体湿法设备的龙头,公司客户涵盖多家海内外龙头客户。多家机构看好公司前景,认为其具备较强的国产替代性。根据数据,在过去1年内,共计12家机构对公司作出了评级,其中9家给予“买入”,3家给予“增持”。

随着行业步入高速成长期,加之技术不断突破,公司的盈利能力稳步提升,不过部分多年未改善的财务指标需要注意,其经营性现金流为负的状况已持续5年,资金长期无法回笼,且缺口逐年扩大。

业绩增长现金流连续多年倒挂

至纯科技成立于2000年,于2017年上市,公司最初的主营业务以高纯工艺系统为主,于2017年起通过成立事业部以及收并购举措,开始拓展半导体湿法清洗设备、光传感应用及相关光学元器件业务,产品广泛应用于半导体、微电子、生物医药、光伏、光纤、TFT-LCD、LED等领域。

公司发展历程

2016年-2020年,公司营收年复合增速约52%,净利润年复合增速约55%,2021年前三季度,公司营收12.83亿元,净利润为1.88亿元,分别同比增69%、128%,其业绩在近几年处于高速成长期。

公司2021年H1的营收结构

从盈利能力上来看,2016年-2021年前三季度,公司毛利率及净利率呈现出波动上涨的趋势。

公司2016年-2021年前三季度的毛利率及净利率

公司的经营模式为定制化服务,即在获取订单及定金后,再进行制作及交付,在此过程中,存货及应收账款便成为了其营运能力的重要衡量指标。

从公司历年的存货明细来看,以未完成项目施工居多,2016年-2021年前三季度,公司的存货周转率分别为1.672、1.364、1.559、1.235、1.235、0.779,存货逐年增长,存货周转率则在逐年下滑。

公司2016年-2021年前三季度的存货简况(亿元)

同期公司的应收账款占营收的比重分别为91%、91%、69%、83%、70%、90%,应收账款周转率分别为1.167、1.234、1.645、1.522、1.534、1.188,应收账款成了公司金额最大、居高不下的资产项目。

公司2016年-2021年前三季度的应收账款简况(亿元)

存货及应收账款的增加带来了现金流压力,同期公司的经营性现金流净额分别为-0.18亿元、-0.68亿元、-0.53亿元、-1.1亿元、-2.8亿元、-1.99亿元,逐年增长。

与此同时,自2017年开始拓展半导体等相关业务后,出于收购资产及增加设备制造产能的资金需求,需要大额的资金投入,公司的投资现金流净额开始持续负增长,同期分别为0.22亿元、-1.67亿元、-0.94亿元、-5.19亿元、-9.09亿元、-3.82亿元。

不过,如同硬币的两面,一面是缺口更大的现金流,另一面则是更加明朗的发展前景。

湿法设备产能爬坡大基金二期拟入股

至纯科技目前的客户包括中芯国际(688981.SH)、华润微(688396.SH)、台湾力晶、TI、华虹华力、士兰微(600460.SH)、长江存储、长鑫存储、海力士、三星、台积电、力晶半导体、华为、燕东微电子等,海外龙头及本土客户均有覆盖。

拆解公司业务结构,目前大部分收入来源于高纯工艺系统,其下游应用领域包括半导体及光伏制造。仅半导体领域的市场空间,据WSTS数据,2020年中国大陆地区产能占全球份额15%,预计2030年将增至24%,下游需求旺盛。据公司年报,2020年所有核心客户均给予了持续的重复订单。

但对于市场而言,其半导体湿法清洗设备业务似乎更具吸引力,伴随着产能爬坡有望助推公司业绩一路上扬。

光大证券认为,公司有望成为国内高端湿法设备的领先者,随着公司一线客户的不断扩张以及下游需求的持续增长,公司有望迎来快速发展。

信达证券认为,湿法设备是国内厂商率先实现国产替代突破的环节,据半导体行业协会数据,当前湿法清洗设备国产化率约达20%,国产替代趋势持续。

清洗环节用于去除半导体硅片制造、晶圆制造和封装测试中可能存在的杂质、反应产物、残留化学品等。清洗设备占晶圆厂总投资额的8%-10%,当芯片制程每前进一个世代,清洗设备的需求会增加20%-30%。以4万片月产能的晶圆厂为例,逻辑上代工厂需要80台左右的清洗设备。

根据Gartner统计数据,2024年预计全球半导体清洗设备市场销售额达31.93亿美元。目前半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线,湿法清洗是主流的清洗技术路线,占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。

至纯科技提供湿法设备包含湿法槽式及湿法单片式清洗设备,在技术上,至纯科技采用先进的NanoSpray技术,这也是日本SREEN等国际大厂使用的主流清洗技术,公司现已获得28nm全系列认证通过(包括湿法刻蚀、去胶、清洗、刷洗等工艺),并向14nm及14nm以下制程突破。

目前国内布局清洗设备的厂商除了至纯科技外,还有北方华创(002371.SZ)、盛美上海(688082.SH)、芯源微(688037.SH)等,产品

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