据报道，三星电子6日宣布，三星高级技术学院（SAIT）的研究人员与蔚山国家科学技术学院（UNIST）、剑桥大学两家高校合作，发现了一种名为非晶态氮化硼（a-BN）的新材料，此项研究可能加速下一代半导体材料的问世。

华创证券指出，非晶态氮化硼有望广泛应用于DRAM和NAND解决方案，特别是大规模服务器的下一代内存解决方案。相关概念股主要有奥克股份、天奈科技等。