格隆汇3月22日|有投资者于投资者互动平台向南大光电(300346.SZ)提问，“请问公司ArF光刻胶产品是干法还是湿法?能适用的集成电路制程范围是多少?是否符合研发预期?”，公司回复称，目前公司ArF光刻胶已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过认证，同时多款产品正在下游客户进行认证，具体请关注相关信息披露。